低溫等離子除臭設(shè)備屬于廢氣治理設(shè)備中的一種，它內(nèi)部主要是等離子模塊組成。此設(shè)備的耗電量很低，前例說(shuō)明一下。5000風(fēng)量的低溫等離子除臭設(shè)備有兩組等離子模塊，一組的耗電量是300W，兩組便是600W，如果大家遇到大風(fēng)量的設(shè)備可以根據(jù)此參數(shù)對(duì)設(shè)備進(jìn)行耗電量的核算。制藥、印染、制造、化工、化纖等行業(yè)在運(yùn)作過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生大量揮發(fā)性有機(jī)污染物(VOCs)傳統(tǒng)的處理方法如吸收、吸附、冷凝和燃燒法等（詳見(jiàn)：有機(jī)廢氣處理組合工藝），對(duì)于低濃度的VOCs很難實(shí)現(xiàn)，而光催化降解VOCs又存在催化劑容易失活的問(wèn)題，利用低溫等離子體處理VOCs可以不受上述條件的限制，具有潛在的優(yōu)勢(shì)。

　　低溫等離子廢氣處理設(shè)備已經(jīng)還廣泛的應(yīng)用于環(huán)境保護(hù)、包裝、紡織、塑料制品、汽車制造、電子設(shè)備制造、家電制造、計(jì)算機(jī)制造、手機(jī)制造、生物材料、衛(wèi)生材料、醫(yī)療器皿、殺菌消毒、環(huán)保設(shè)備、石油天然氣管道、供暖管道、化工子、半導(dǎo)體、航空航天等行業(yè)中。

 

　　低溫等離子廢氣處理工藝概述

　　低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓時(shí)，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過(guò)程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個(gè)體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。

　　DBD等離子體反應(yīng)區(qū)富含極高的物質(zhì)，如高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等，廢氣中的污染物質(zhì)可與這些具有較高能量的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，使污染物質(zhì)在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到講解污染物的目的。與傳統(tǒng)的電暈放電形勢(shì)產(chǎn)生的低溫等離子技術(shù)相比較，DBD等離子體技術(shù)放電量是電暈放電的50倍，放電密度是電暈放電的130倍。所以,傳統(tǒng)低溫等離子體技術(shù)只能用于室內(nèi)空氣異味治理,與其他低溫等離子體技術(shù)相比較，DBD等離子體技術(shù)是唯一用于工業(yè)化工藝廢氣治理的技術(shù)。

 

　　低溫等離子技術(shù)特點(diǎn)

　　1、技術(shù)高端，工藝簡(jiǎn)潔：開(kāi)機(jī)后，即自行運(yùn)轉(zhuǎn)，受工況限制非常少，無(wú)需專人操作，除臭率最高可達(dá)99%。

　　2、節(jié)能：無(wú)機(jī)械設(shè)備，空氣阻力小，耗電量約為0.003kw/m3廢氣。

　　3、適應(yīng)工況范圍寬：設(shè)備啟動(dòng)、停止十分迅速，隨用隨開(kāi)，不受氣溫的影響。在250℃以下和在霧態(tài)工況環(huán)境中均可正常運(yùn)轉(zhuǎn)。-50℃至+50℃的環(huán)境溫度仍可正常運(yùn)轉(zhuǎn)。

　　4、設(shè)備使用壽命長(zhǎng)：本設(shè)備由不銹鋼材，銅材、鉬材、環(huán)氧樹(shù)脂等材料組成，抗氧化，采用防腐蝕材料，電極與廢氣不直接接觸，根本上解決了設(shè)備腐蝕問(wèn)題。

　　5、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單：只需用電，操作極為簡(jiǎn)單，無(wú)需派專職人員看守，基本不占用人工費(fèi)。

　　6、無(wú)機(jī)械設(shè)備：故障率低，維修容易。

　　7、應(yīng)用范圍廣：介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生的低溫等離子體中，電子能量高，幾乎可以將所有的異味氣體分子降解。